SiC Wafer Boat
Loď z karbidu kremíkaje nosné zariadenie pre doštičky, používané hlavne v solárnych a polovodičových difúznych procesoch. Má vlastnosti, ako je odolnosť proti opotrebeniu, odolnosť proti korózii, odolnosť proti nárazu pri vysokej teplote, odolnosť voči plazmovému bombardovaniu, vysoká teplotná únosnosť, vysoká tepelná vodivosť, vysoký odvod tepla a dlhodobé používanie, ktoré nie je ľahké ohýbať a deformovať. Naša spoločnosť používa vysoko čistý karbid kremíka na zabezpečenie životnosti a poskytuje prispôsobené návrhy, vrátane. rôzne vertikálne a horizontálneoblátkový čln.
SiC pádlo
TheKonzolové pádlo z karbidu kremíkasa používa hlavne pri (difúznom) poťahovaní kremíkových plátkov, ktoré hrá kľúčovú úlohu pri nakladaní a preprave kremíkových plátkov pri vysokej teplote. Je kľúčovou zložkoupolovodičový plátoknakladacie systémy a má tieto hlavné charakteristiky:
1. Nedeformuje sa v prostredí s vysokou teplotou a má vysokú zaťažovaciu silu na doštičky;
2. Je odolný voči extrémnemu chladu a rýchlemu teplu a má dlhú životnosť;
3. Koeficient tepelnej rozťažnosti je malý, výrazne predlžuje cyklus údržby a čistenia a výrazne znižuje znečisťujúce látky.
SiC pecná rúra
Procesná trubica z karbidu kremíka, vyrobený z vysoko čistého SiC bez kovových nečistôt, neznečisťuje plátok a je vhodný pre procesy ako polovodičová a fotovoltaická difúzia, žíhanie a oxidačný proces.
Robotické rameno SiC
Robotické rameno SiC, tiež známy ako koncový efektor na prenos doštičiek, je robotické rameno používané na prepravu polovodičových doštičiek a je široko používané v priemysle polovodičov, optoelektroniky a solárnej energie. Použitie vysoko čistého karbidu kremíka, s vysokou tvrdosťou, odolnosťou proti opotrebeniu, seizmickou odolnosťou, dlhodobým používaním bez deformácie, dlhou životnosťou atď., môže poskytnúť prispôsobené služby.
Grafit pre rast kryštálov
Grafitový tepelný štít
Grafitová elektródová trubica
Grafitový deflektor
Grafitové skľučovadlo
Všetky procesy používané na pestovanie polovodičových kryštálov fungujú vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí. Horúca zóna pece na rast kryštálov sa zvyčajne získava s vysokou čistotou odolnou voči teplu a korózii. grafitové komponenty, ako sú grafitové ohrievače, tégliky, valce, deflektor, skľučovadlá, rúrky, krúžky, držiaky, matice atď. Náš hotový výrobok môže dosiahnuť obsah popola menej ako 5 ppm.
Grafit pre semidonutorovú epitaxiu
Grafitová základňa
Grafitová epitaxná hlaveň
Monocry Silicon Epitaxial Base
Grafitové diely MOCVD
Polovodičové grafitové svietidlo
Epitaxný proces sa týka rastu monokryštálového materiálu na monokryštálovom substráte s rovnakým usporiadaním mriežky ako substrát. Vyžaduje veľa grafitových dielov s ultra vysokou čistotou a grafitovú základňu s povlakom SIC. Grafit vysokej čistoty používaný na epitaxiu polovodičov má širokú škálu aplikácií, ktoré sa vyrovnajú najbežnejšie používaným zariadeniam v priemysle. Zároveň má extrémne vysoký. čistota, rovnomerný náter, vynikajúca životnosť a extrémne vysoká chemická odolnosť a tepelná stabilita.
Izolačný materiál a iné
Tepelnoizolačné materiály používané pri výrobe polovodičov sú grafitová tvrdá plsť, mäkká plsť, grafitová fólia, uhlíkové kompozitné materiály atď. Našimi surovinami sú dovážané grafitové materiály, ktoré je možné rezať podľa špecifikácie zákazníkov a môžu byť predávané aj ako celý. Uhlíkový kompozitný materiál sa zvyčajne používa ako nosič pre proces výroby solárnych monokryštálov a polykremíkových článkov.