Hromadný CVD SiC krúžok

Krátky popis:

Hromadné CVD SiC krúžky používajú ako suroviny plyn ako zdroj kremíka (ako je hydrid kremíka) a plyn ako zdroj uhlíka (ako je metán), ktoré reagujú pri vysokej teplote a ukladajú veľké materiály SiC na substrát alebo formu. Tento proces umožňuje rovnomerné nanesenie SiC na veľkú plochu, čím sa vytvorí silná a konzistentná kruhová štruktúra.

Pošlite nám e-mail

Detail produktu

Štítky produktu

Prečo je leptací krúžok z karbidu kremíka?

RTPCVD SiC krúžkysú široko používané v priemyselných a vedeckých oblastiach vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí. Hrá dôležitú úlohu vo výrobe polovodičov, optoelektronike, presných strojoch a chemickom priemysle. Konkrétne aplikácie zahŕňajú:

1. Výroba polovodičov:RTP CVD SiC krúžkymôže byť použitý na ohrev a chladenie polovodičových zariadení, poskytuje stabilnú reguláciu teploty a zabezpečuje presnosť a konzistenciu procesu.

2. Optoelektronika: Vďaka svojej vynikajúcej tepelnej vodivosti a vysokej teplotnej odolnosti RTPCVD SiC krúžkymôžu byť použité ako nosné materiály a materiály na odvádzanie tepla pre lasery, komunikačné zariadenia s optickými vláknami a optické komponenty.

3. Presné stroje: Krúžky RTP CVD SiC možno použiť pre presné prístroje a zariadenia vo vysokoteplotnom a korozívnom prostredí, ako sú vysokoteplotné pece, vákuové zariadenia a chemické reaktory.

4. Chemický priemysel: Vďaka odolnosti proti korózii a chemickej stabilite môžu byť krúžky RTP CVD SiC použité v nádobách, potrubiach a reaktoroch pri chemických reakciách a katalytických procesoch.

Systém Epi

RTP systém

Systém CVD

Výkon produktu:

1. Zoznámte sa s procesom pod 28 nm

2. Super odolnosť proti korózii

3. Super čistý výkon

4. Super tvrdosť

5. Vysoká hustota

6. Odolnosť voči vysokej teplote

7. Odolnosť proti opotrebovaniu

Aplikácia produktu:

Materiály z karbidu kremíka sa vyznačujú vysokou tvrdosťou, odolnosťou proti opotrebovaniu, odolnosťou proti korózii a vysokou teplotnou stabilitou. Produkty s vynikajúcim komplexným výkonom sú široko používané pri suchom leptaní a TF/difúznych procesoch.