Izostatický grafitový čln SEMICERA PECVD je vysoko čistý grafitový produkt s vysokou hustotou určený na podporu plátkov v procese PECVD (plazma zosilnená chemická depozícia). SEMICERA využíva pokročilú technológiu izostatického lisovania, aby zabezpečila, že grafitový čln má vynikajúcu odolnosť voči vysokej teplote, odolnosť proti korózii, rozmerovú stabilitu a dobrú tepelnú vodivosť, čo je nepostrádateľný spotrebný materiál v procese výroby polovodičov.
Izostatický grafitový čln SEMICERA PECVD má nasledujúce výhody:
▪ Vysoká čistota: Grafitový materiál má vysokú čistotu a nízky obsah nečistôt, aby sa zabránilo kontaminácii povrchu plátku.
▪ Vysoká hustota: Vysoká hustota, vysoká mechanická pevnosť, odoláva vysokej teplote a vysokému vákuu.
▪ Dobrá rozmerová stabilita: Malá rozmerová zmena pri vysokej teplote na zabezpečenie stability procesu.
▪ Vynikajúca tepelná vodivosť: Účinne prenáša teplo, aby sa zabránilo prehriatiu plátku.
▪ Silná odolnosť proti korózii: Schopný odolávať erózii rôznymi korozívnymi plynmi a plazmou.
Výkonnostný parameter | semicera | SGL R6510 | Výkonnostný parameter |
Objemová hmotnosť (g/cm3) | 1,91 | 1,83 | 1,85 |
Pevnosť v ohybe (MPa) | 63 | 60 | 49 |
Pevnosť v tlaku (MPa) | 135 | 130 | 103 |
Tvrdosť Shore (HS) | 70 | 64 | 60 |
Koeficient tepelnej rozťažnosti(10-6/K) | 85 | 105 | 130 |
Koeficient tepelnej rozťažnosti(10-6/K) | 5,85 | 4.2 | 5.0 |
Odpor (μΩm) | 11-13 | 13 | 10 |
Výhody výberu nás:
▪ Výber materiálu: Na zabezpečenie kvality produktu sa používajú vysoko čisté grafitové materiály.
▪ Technológia spracovania: Izostatické lisovanie sa používa na zabezpečenie hustoty a rovnomernosti produktu.
▪ Prispôsobenie veľkosti: Grafitové člny rôznych veľkostí a tvarov je možné prispôsobiť podľa potrieb zákazníka.
▪ Povrchová úprava: K dispozícii sú rôzne metódy povrchovej úpravy, ako je nanášanie karbidu kremíka, nitridu bóru atď., aby sa splnili rôzne procesné požiadavky.