English

Diely druhej polovice pre spodné usmerňovače v epitaxnom procese

Časti druhej polovice pre dolné usmerňovače v obraze s epitaxným procesom
  • Diely druhej polovice pre spodné usmerňovače v epitaxnom procese

Krátky popis:

SiC potiahnuté grafitové diely pre SiC epitaxné zariadenia.

Predstavenie a použitie produktu: Pripojená kremenná trubica, môže prechádzať plynom na poháňanie rotácie podnosu, regulácia teploty

Umiestnenie produktu v zariadení: v reakčnej komore, nie v priamom kontakte s plátkom

Hlavné nadväzujúce produkty: energetické zariadenia

Hlavný trh s terminálmi: nové energetické vozidlá


Detail produktu

Štítky produktu

S povlakom SiCGrafitová časť Halfmoonje kľúčovým komponentom používaným v procesoch výroby polovodičov, najmä pre epitaxné zariadenia SiC. Používame našu patentovanú technológiu na výrobu časti polmesiaca s extrémne vysokou čistotou, dobrou rovnomernosťou povlaku a vynikajúcou životnosťou, ako aj vysokou chemickou odolnosťou a tepelnou stabilitou.

 
Semicera Pracovné miesto
Semicera pracovisko 2
Zariadenie stroja
CNN spracovanie, chemické čistenie, CVD povlak
Naša služba
  • Predchádzajúce:
  • Ďalej:

    • SÚVISIACE PRODUKTY