Povlaky z karbidu tantalu (TaC) s vysokou čistotou, vysokou teplotnou stabilitou a vysokou chemickou odolnosťou

Krátky popis:

TaC povlak je nová generácia materiálu odolného voči vysokým teplotám s lepšou stabilitou pri vysokých teplotách ako SiC, ktorý slúži ako povlak odolný voči korózii, oxidácii a opotrebovaniu, môže byť použitý v prostredí nad 2000 ℃, široko používaný v aerokozmický ultra-vysokoteplotné horúce koncové diely, tretia generácia rastu polovodičových monokryštálov a ďalšie oblasti.


Detail produktu

Štítky produktu

Semicera poskytuje špecializované povlaky karbidu tantalu (TaC) pre rôzne komponenty a nosiče.Popredný proces povlakovania Semicera umožňuje povlakom z karbidu tantalu (TaC) dosiahnuť vysokú čistotu, stabilitu pri vysokej teplote a vysokú chemickú toleranciu, čím sa zlepšuje kvalita produktu kryštálov SIC/GAN a vrstiev EPI (Grafitom potiahnutý TaC susceptor) a predĺženie životnosti kľúčových komponentov reaktora. Použitie povlaku karbidu tantalu TaC má vyriešiť problém s okrajmi a zlepšiť kvalitu rastu kryštálov a Semicera prelomovo vyriešila technológiu povlakovania karbidu tantalu (CVD), čím dosiahla medzinárodnú pokročilú úroveň.

 

Po rokoch vývoja si Semicera podmanila technológiuCVD TaCspoločným úsilím oddelenia výskumu a vývoja. Poruchy sa ľahko vyskytujú v procese rastu doštičiek SiC, ale po použitíTaC, rozdiel je značný. Nižšie je uvedené porovnanie doštičiek s a bez TaC, ako aj častí Semicera pre rast monokryštálov

微信图片_20240227150045

s a bez TaC

微信图片_20240227150053

Po použití TaC (vpravo)

Okrem toho životnosť produktov TaC povlaku Semicera je dlhšia a odolnejšia voči vysokej teplote ako povlaku SiC. Po dlhom čase laboratórnych meraní môže náš TaC dlhodobo pracovať pri maximálne 2300 stupňoch Celzia. Nižšie sú uvedené niektoré z našich vzoriek:

微信截图_20240227145010

(a) Schematický diagram zariadenia na pestovanie monokryštálových ingotov SiC metódou PVT (b) Horný držiak očkovacej hmoty potiahnutý TaC (vrátane semena SiC) (c) Vodiaci krúžok z grafitu potiahnutý TAC

ZDFVzCFV
Hlavná vlastnosť
Semicera Pracovné miesto
Semicera pracovisko 2
Zariadenie stroja
CNN spracovanie, chemické čistenie, CVD povlak
Naša služba

  • Predchádzajúce:
  • Ďalej: