Doska potiahnutá karbidom tantalu

Stručný opis:

Povlak karbidu tantalu je pokročilá technológia povrchového lakovania, ktorá využíva materiál karbidu tantalu na vytvorenie tvrdej ochrannej vrstvy odolnej voči opotrebovaniu a korózii na povrchu substrátu.Tento povlak má vynikajúce vlastnosti, ktoré výrazne zvyšujú tvrdosť materiálu, odolnosť voči vysokej teplote a chemickú odolnosť a zároveň znižujú trenie a opotrebovanie.Povlaky z karbidu tantalu sa široko používajú v rôznych oblastiach, vrátane priemyselnej výroby, letectva, automobilového inžinierstva a zdravotníckych zariadení, na predĺženie životnosti materiálu, zlepšenie efektívnosti výroby a zníženie nákladov na údržbu.Či už ide o ochranu kovových povrchov pred koróziou alebo o zvýšenie odolnosti mechanických častí proti opotrebovaniu a oxidácii, povlaky karbidu tantalu poskytujú spoľahlivé riešenie pre rôzne aplikácie.

 


Detail produktu

Štítky produktu

Semicera Semicera poskytuje špecializované povlaky z karbidu tantalu (TaC) pre rôzne komponenty a nosiče.Semicera Semicera vedúci proces povlakovania umožňuje povlakom z karbidu tantalu (TaC) dosiahnuť vysokú čistotu, stabilitu pri vysokej teplote a vysokú chemickú toleranciu, čím sa zlepšuje kvalita produktu kryštálov SIC/GAN a EPI vrstiev (Grafitom potiahnutý TaC susceptor) a predĺženie životnosti kľúčových komponentov reaktora.Použitie povlaku karbidu tantalu TaC má vyriešiť problém s okrajmi a zlepšiť kvalitu rastu kryštálov a Semicera Semicera prelomovo vyriešila technológiu povlakovania karbidu tantalu (CVD), čím dosiahla medzinárodnú pokročilú úroveň.

Po rokoch vývoja si Semicera podmanila technológiuCVD TaCspoločným úsilím oddelenia výskumu a vývoja.Poruchy sa ľahko vyskytujú v procese rastu doštičiek SiC, ale po použitíTaC, rozdiel je značný.Nižšie je uvedené porovnanie doštičiek s a bez TaC, ako aj častí Simicera pre rast monokryštálov

微信图片_20240227150045

s a bez TaC

微信图片_20240227150053

Po použití TaC (vpravo)

Okrem toho životnosť produktov TaC povlaku Semicera je dlhšia a odolnejšia voči vysokej teplote ako povlaku SiC.Po dlhom čase laboratórnych meraní môže náš TaC dlhodobo pracovať pri maximálne 2300 stupňoch Celzia.Nižšie sú uvedené niektoré z našich vzoriek:

微信截图_20240227145010

(a) Schematický diagram zariadenia na pestovanie monokryštálových ingotov SiC metódou PVT (b) Horný držiak očkovacej hmoty potiahnutý TaC (vrátane semena SiC) (c) Vodiaci krúžok z grafitu potiahnutý TAC

ZDFVzCFV
Hlavná prednosť
Semicera Pracovné miesto
Semicera pracovisko 2
Zariadenie stroja
CNN spracovanie, chemické čistenie, CVD povlak
Naša služba

  • Predchádzajúce:
  • Ďalšie: