Semicera'sMOCVDSusceptor 3x2” je kľúčový komponent špeciálne navrhnutý pre procesy epitaxie v polovodičovom priemysle, najmä preSi epitaxiaaSiC epitaxiaprocesy. TheSusceptor MOCVDzaisťuje rovnomerné rozloženie teploty počas procesu epitaxie prostredníctvom optimalizovanej tepelnej vodivosti, čím zlepšuje presnosť a kvalitu nanášania monokryštalického kremíka (Monocrystalline Silicon).
Semicera sa vždy zameriavala na to, aby zákazníkom poskytovala vysokokvalitné susceptory MOCVD 3x2”. Tento produkt vyrobený z pokrokových materiálov má nielen vynikajúcu odolnosť voči vysokým teplotám, ale zostáva stabilný aj v zložitých chemických prostrediach. Funguje dobre v rôznych epitaxných zariadeniach, najmä vSusceptor hlavnea ich spoľahlivosť a výkon sú všeobecne uznávané.
Poskytujeme prispôsobené susceptory MOCVD pre rôzne procesné požiadavky, aby sme maximalizovali efektivitu výroby a znížili straty materiálu. Semicera MOCVD 3x2” Susceptor nielen predlžuje životnosť zariadenia, ale poskytuje aj stabilnejšiu podporu preSi epitaxiaaSiC epitaxiaprocesy prostredníctvom precízneho dizajnu, zabezpečujúceho konzistentnosť kvality epitaxnej vrstvy a vysokú čistotu produktu.
Semicera sa vždy zaväzuje poskytovať zákazníkom spoľahlivé, odolné a efektívne komponenty epitaxného zariadenia. Či už v laboratórnych prostrediach alebo vo veľkom meradle priemyselnej výroby, MOCVD 3x2” susceptor môže spĺňať najprísnejšie technické požiadavky, pomáha zákazníkom dosiahnuť vyššiu kontrolu procesu a lepší výstup produktu.
✓Najvyššia kvalita na čínskom trhu
✓ Dobré služby vždy pre vás, 7 * 24 hodín
✓Krátky termín dodania
✓Malé MOQ vítané a akceptované
✓Vlastné služby
