Semicera poskytuje špecializované povlaky karbidu tantalu (TaC) pre rôzne komponenty a nosiče.Popredný proces povlakovania Semicera umožňuje povlakom z karbidu tantalu (TaC) dosiahnuť vysokú čistotu, stabilitu pri vysokej teplote a vysokú chemickú toleranciu, čím sa zlepšuje kvalita produktu kryštálov SIC/GAN a vrstiev EPI (Grafitom potiahnutý TaC susceptor) a predĺženie životnosti kľúčových komponentov reaktora. Použitie povlaku karbidu tantalu TaC má vyriešiť problém s okrajmi a zlepšiť kvalitu rastu kryštálov a Semicera prelomovo vyriešila technológiu povlakovania karbidu tantalu (CVD), čím dosiahla medzinárodnú pokročilú úroveň.
S príchodom 8-palcových doštičiek z karbidu kremíka (SiC) sú požiadavky na rôzne polovodičové procesy čoraz prísnejšie, najmä na procesy epitaxie, kde teploty môžu presiahnuť 2000 stupňov Celzia. Tradičné susceptorové materiály, ako je grafit potiahnutý karbidom kremíka, majú tendenciu sublimovať pri týchto vysokých teplotách, čo narušuje proces epitaxie. Tento problém však účinne rieši CVD karbid tantalu (TaC), ktorý odoláva teplotám až do 2300 stupňov Celzia a ponúka dlhšiu životnosť. Ak chcete zistiť viac o našich pokročilých riešeniach, obráťte sa na viečka s povlakom karbidu tantalu spoločnosti Semicera.
s a bez TaC
Po použití TaC (vpravo)
Navyše, Semicera'sProdukty potiahnuté TaCvykazujú dlhšiu životnosť a väčšiu odolnosť voči vysokým teplotám v porovnaní sSiC povlaky.Laboratórne merania preukázali, že našeTaC povlakymôže nepretržite fungovať pri teplotách až do 2300 stupňov Celzia po dlhú dobu. Nižšie uvádzame niekoľko príkladov našich vzoriek:
